Jueves 01 de Julio del 2021

Llamado a Concurso Externo de Antecedentes y Oposición

El Ministerio Público de la Acusación llama a Concurso Externo de Antecedentes y Oposición (Resolución MPA N° 2324/2021) a efectos de contar con un listado de aspirantes a ingresar al Ministerio Público de la Acusación para desempeñarse en la ciudad de Libertador General San Martín.

 

Los requisitos y modalidad del examen se encuentran previstos en el Reglamento de Concurso Externos de Antecedentes y Oposición aprobado por Resolución N°2197/2021.

 

DESCARGUE AQUÍ LA RESOLUCIÓN MPA N° 2324/2021

 

DESCARGUE AQUÍ LA RESOLUCIÓN MPA N° 2197/2021 y ANEXO

 

Las inscripciones deberán realizarse desde el día 1 de julio hasta el día 12 de julio del presente año en el Formulario habilitado al efecto.

 

Son requisitos para proceder a formalizar la inscripción los siguientes:

 

-Tener Título Universitario de Abogado, debidamente certificado por Universidad competente, con una antigüedad mínima de tres (3) años en el ejercicio profesional y experiencia laboral comprobable en el área Penal no menor a tres (3) años con la presentación de la documentación que la acredite.

 

-Posgrado en Derecho Penal, Derecho Procesal Penal o Magistratura y Derecho/Función Judicial (Especialización, Maestría o Doctorado aprobado por CONEAU), para lo cual deberá presentar copia debidamente certificada por la Institución emisora que lo acredite.

 

-No haber sido sancionados o excluidos de la matrícula profesional o inhabilitado/a para el desempeño de cargos públicos.

 

-No tener condena penal firme por delito doloso.

 

Para inscribirse debe:

 

1º. Cargar su Curriculum Vitae con la documentación exigida en formato digital en el sistema de inscripción del Ministerio Público de la Acusación.

 

2º. Una vez cargado su Curriculum Vitae debe seleccionar que desea postularse.

 

ACCEDA AQUÍ AL FORMULARIO DE INSCRIPCIÓN

 

Si presenta algún inconveniente técnico para postularse escriba un correo a la siguiente dirección: capacitacion@mpajujuy.gob.ar.